北京时间11月29日，我国科研机构宣告“超分辩光刻配备研发”项目经过检验，成为全世界首台用紫外光源完成的22纳米分辩率的光刻机据我国《科技日报》报导，中科院光电技能研究所项目副总师胡松泄漏，新检验的光刻机，运用了365纳米紫外光的汞灯，一只费用仅为数万元（1块钱约合0.1438美元），而光刻机整机价格在百万元至千万元级。
胡松还说，中科院光电技能研究所研发的光刻机加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，“让许多用户喜从天降”。光刻机是集成电路制作业的中心人物。现在，运用深紫外光源的光刻机是干流，成像分辩力极限为34纳米，分辩率进一步提高要用多重曝光等技能，很贵重。光刻机巨子荷兰ASML公司垄断了顶级集成电路光刻机，加工极限为7纳米。ASML的EUV光刻机运用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3,000万元，还要在真空下运用。而中科院光电技能研究所的光刻机分辩率为22纳米，拿手加工一系列纳米功用器材，包含大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器材、生化传感芯片和超外表成像器材。报导称，中科院光电技能研究所现在已把握超分辩光刻镜头、精细空隙检测、纳米级定位精度工件台、深邃宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等中心专利，“技能彻底自主可控，在超分辩成像光刻范畴世界抢先”。尽管我国科研机构研发出新式光刻机，但荷兰ASML公司研发的光刻机仍是我国客户的首选。本年的5月底，据荷兰新闻媒体报导，我国芯片巨子“长江存储”从ASML订货的价值7,200万美元的光刻机运抵湖北武汉。另日本新闻媒体报导，我国另一家芯片制作企业中芯世界也向ASML公司订货一台价值1.2亿美元的光刻机，估计将在2019年交货。继中兴通讯、福建晋华后，据报导，美国考虑制裁我国监控设备巨子海康威视，堵截芯片供给。而这会促进我国加速使用国产配备的脚步。
